納米顆粒跟蹤分析儀是一種基于納米顆粒跟蹤分析（NTA）技術(shù)的物理性能測試儀器，通過追蹤納米顆粒的布朗運(yùn)動和光散射特性，實(shí)現(xiàn)粒徑、濃度及Zeta電位等多參數(shù)測量。

　　該儀器核心光學(xué)系統(tǒng)包含激光散射視頻顯微鏡和高靈敏度CMOS傳感器，支持10-2000nm粒徑檢測范圍，并具備熒光檢測功能。其工作原理是通過激光束照射納米顆粒懸浮液，利用顯微鏡捕捉顆粒散射光形成的移動光點(diǎn)，相機(jī)以每秒約30幀的速度記錄顆粒布朗運(yùn)動軌跡，專用軟件通過斯托克斯-愛因斯坦方程推算粒徑分布，精度可達(dá)4nm，同時(shí)提供顆粒濃度（10?-10?個(gè)/mL精度）和Zeta電位（±200mV范圍）測量。

　　納米顆粒跟蹤分析儀和顆粒跟蹤分析儀均基于顆粒布朗運(yùn)動原理實(shí)現(xiàn)粒度分析，但二者在測量范圍、技術(shù)細(xì)節(jié)等方面存在顯著差異，核心區(qū)別在于對“納米級”顆粒的特異性檢測能力。以下從多個(gè)維度詳細(xì)對比：

　　一、測量粒徑范圍的核心差異

　　顆粒跟蹤分析儀（PTA）：

　　主要針對微米級及以上顆粒（通常測量范圍為0.5μm-100μm），適用于較大顆粒的跟蹤和分析。其光學(xué)系統(tǒng)（如普通光學(xué)顯微鏡）的分辨率有限，難以捕捉納米級顆粒的布朗運(yùn)動軌跡。

　　納米顆粒跟蹤分析儀（NTA）：

　　專門針對納米級顆粒（典型測量范圍為10nm-1μm），通過優(yōu)化光學(xué)設(shè)計(jì)（如采用激光光源、高靈敏度相機(jī)）和算法，可識別并跟蹤納米顆粒的快速布朗運(yùn)動（納米顆粒因尺寸小，布朗運(yùn)動更劇烈）。

　　二、技術(shù)原理的細(xì)節(jié)差異

　　兩者均基于斯托克斯-愛因斯坦方程（通過顆粒擴(kuò)散系數(shù)計(jì)算粒徑），但實(shí)現(xiàn)方式不同：

　　光學(xué)系統(tǒng)：

　　PTA：多采用普通白光光源和常規(guī)顯微鏡，相機(jī)幀率較低（通常＜30fps），適用于運(yùn)動速度較慢的大顆粒。

　　NTA：采用激光光源（如488nm藍(lán)色激光）聚焦于樣品池，使納米顆粒產(chǎn)生散射光；搭配高幀率CCD/CMOS相機(jī)（通常＞30fps，甚至達(dá)100fps以上），可捕捉納米顆粒的快速位移。

　　跟蹤算法：

　　PTA：算法相對簡單，主要通過顆粒的位移距離和時(shí)間計(jì)算擴(kuò)散系數(shù)，對顆粒濃度要求較低（避免顆粒重疊）。

　　NTA：需處理納米顆粒的高動態(tài)運(yùn)動，算法更復(fù)雜（如采用粒子追蹤velocimetry技術(shù)），同時(shí)可通過散射光強(qiáng)度估算顆粒濃度（需校準(zhǔn)），但對樣品濃度敏感（過濃會導(dǎo)致顆粒軌跡重疊，影響分析）。

　　三、核心區(qū)別總結(jié)

　　粒徑敏感性：NTA專為納米級（10nm-1μm）設(shè)計(jì)，PTA聚焦微米級（0.5μm以上）。

　　光學(xué)與算法：NTA依賴激光+高幀率相機(jī)+復(fù)雜跟蹤算法，PTA采用常規(guī)光學(xué)系統(tǒng)和簡單算法。

　　功能擴(kuò)展：NTA通?？赏瑫r(shí)提供粒徑分布和顆粒濃度數(shù)據(jù)，PTA更側(cè)重粒徑分析，濃度測量精度較低。